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直写式无掩模光刻

协调光源和运动系统。

我们可让您专注于工艺上的细微差别,同时实现新的精度水平和更小的特征尺寸。

工艺工具触发

我们专注于以低延迟准确触发外部工艺。我们触发加工设备的解决方案,例如基于校准的工作点位置,以纳秒级延迟的光刻光源和直写式激光器

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直写式加工精密系统

我们经常设计和部署用于纳米级加工的系统。使用错误映射技术和其他技术定期处理同步加工工艺,从而实现推动下一代设备的精细功能。

电子束和极紫外 (EUV) 光刻

在高真空 (HV) 和超高真空 (UHV) 制备定位系统中,我们融入了数十年的磁屏蔽、颗粒管理以及真空制备清洁制造和设计经验。

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